VEGA VEGASWING 66 - transistor (NPN-PNP) With SIL qualification - Manuale (Pagina 33)

33
9 Appendice
VEGASWING 66 • - Transistor (NPN/PNP)
44951-IT
-130822
Influenza della densità del prodotto sul punto d'intervento
1
2
4
3
5
6
1,2
(0,043)
1
(0,036)
0,8
(0,029)
0,6
(0,022)
1,4
(0,051)
1,6
(0,058)
1,8
(0,065)
2
(0,072)
2,2
(0,079)
2,4
(0,087)
10 (0.39")
0
0,4
(0,014)
8 (0.31")
6 (0.24")
4 (0.16")
2 (0.08")
-2 (-0.08")
-4 (-0.16")
-6 (-0.24")
-8 (-0.31")
-10 (-0.39")
mm
Figura 38: Influenza della densità del prodotto sul punto d'intervento
1 Spostamento del punto d'intervento in mm (in)
2 Densità del prodotto in g/cm³ (lb/in³)
3 Posizione del commutatore 0,5 g/cm³ (0.018 lb/in³)
4 Posizione del commutatore 0,7 g/cm³ (0.025 lb/in³)
5 Punto d'intervento con condizioni di riferimento (tacche)
6 Diapason
Influenza della pressione di processo sul punto d'intervento
1
2
3
4
20
(290)
60
(870)
40
(580)
80
(1160)
100
(1450)
10 (0.39")
8 (0.31")
6 (0.24")
4 (0.16")
2 (0.08")
-2 (-0.08")
-4 (-0.16")
-6 (-0.24")
-8 (-0.31")
-10 (-0.39")
mm
0
120
(1740)
140
(2030)
160
(2320)
Figura 39: Influenza della pressione di processo sul punto d'intervento
1 Spostamento del punto d'intervento in mm (in)
2 Pressione di processo in bar (psig)
3 Punto d'intervento con condizioni di riferimento (tacche)
4 Diapason
Riproducibilità 0,1 mm (0.004 in)
Isteresi ca. 2 mm (0.08 in) in caso di montaggio verticale
Ritardo d'intervento ca. 1 s (on/off)